本发明公开了一种纳米线增强羟基磷灰石涂层的制备方法,用于解决现有方法制备的钙磷/胶原复合涂层与基体界面结合力差的技术问题。技术方案是首先对C/C
复合材料进行预处理,再在C/C复合材料表面原位生长SiC纳米线,最后在含SiC纳米线的C/C复合材料表面
电化学沉积HA涂层。由于SiC纳米线可使界面处的HA涂层内聚力提高,借助SiC纳米线的拔出与界面钉扎作用,提高了涂层与基体的界面结合力,进而提高了涂层的力学性能。涂层与基体的拉伸强度由背景技术的4.83±0.71Mpa提高到5.65±0.28MPa~8.05±0.41MPa。
声明:
“纳米线增强羟基磷灰石涂层的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)