本公开是关于一种显示装置、阵列基板及其制造方法,涉及显示技术领域。该方法包括:在基板上形成半导体图案、栅极绝缘层、栅极、绝缘层以及源漏极的步骤,还包括在包括所述半导体图案的基板上形成
复合材料层,并对所述复合材料层进行氢化处理的步骤,所述复合材料层包括钛配合物/氧化
石墨烯。本公开能够省略层间绝缘层,从而可以避免层间绝缘层发生断裂导致柔性屏无法显示的情况,进而能够提高柔性屏弯折性能。
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