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等离子体干法刻蚀用的托盘系统

954   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 16:58:50
本发明设计半导体加工技术领域。本发明通过引入石墨烯材料或石墨烯复合材料层来提高晶片表面散热能力和改善温度均匀性的等离子体干法刻蚀用托盘系统，包括铝托盘、氦气孔、密封圈、盖板以及嵌入的高导热性能的石墨烯材料(或石墨烯复合材料)层。本发明的优点和积极效果在于：将高导热系统的石墨烯材料或石墨烯复合材料引入等离子干法刻蚀的托盘系统中，有利于大大改善刻蚀过程中晶片的瞬时散热能力，有利于控制晶片表面的温度均匀性和提高刻蚀成品合格率及扩大刻蚀工艺的操作窗口。
声明：
“等离子体干法刻蚀用的托盘系统” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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