本发明涉及一种包覆硅的碳颗粒
复合材料、制备方法和设备及用途,本发明使用低温等离子体反应分解制备纳米硅,能够在常温条件下化学气相沉积制备产品,得到包覆非晶硅层的碳颗粒;进一步地通过反应气流量、反应功率的调节,能够有效的调控纳米硅颗粒尺寸,可在5~1000nm范围内自由控制;通过将化学气相沉积室设计成旋转方式,能够有效的提高纳米硅与基底复合的均匀性;进一步地,通过对化学气相沉积速率、旋转速率等条件的控制能够得到厚度可控的硅层。
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