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原位生成硫化铋/蒙脱石插层复合材料的制备方法

784   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 16:33:04
本发明提供了一种原位生成硫化铋/蒙脱石插层复合材料的制备方法，以无水硝酸铋和硫脲为原料，将其溶解后，向其中加入钠基蒙脱石，搅拌均匀，然后确保溶液中无铋离子后，离心出沉淀物，将沉淀物微波处理，最后离心、洗涤、烘干即可。本发明利用铋的阳离子行络合物作为硫化铋的前驱体，能使铋最大限度的进入到蒙脱石层间；本发明利用蒙脱石的特性，可以化学吸附阳离子，从而使阳离子能规则的排列，所以微波辐射加热后，硫化铋也会规则的排列在蒙脱石层间。本发明方法可以使得纳米硫化铋均匀的分散。由于蒙脱石（001）晶面起到了，限制硫化铋生长的作用，所以生成的纳米硫化铋有特定的形状。
声明：
“原位生成硫化铋/蒙脱石插层复合材料的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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