本申请提供一种气相沉积装置,包括底座、料板、沉积室,沉积室包括外筒体、排气口,以及设于外筒体内的排气套筒;排气套筒包括内筒和套设在内筒外部的套筒,内筒与套筒围合形成气流通道,且套筒的侧壁上设有通气孔;料板上设有第一进气孔,第一进气孔位于套筒和内筒之间;料板上还设有进气结构,进气结构包括进气孔阵列,进气孔阵列以排气套筒为中心呈放射状分布;进气孔阵列远离排气套筒的一侧设有第四进气孔。该设备能够有效控制沉积过程中气体的流动方向,使其与待处理坯体充分接触。另外,本发明还提供一种利用该设备制备碳/碳
复合材料的方法,包括确定碳源气体流量大小的准则及随CVD次数增加而递减的原则。
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