本实用新型公开一种用于制备大尺寸C/C
复合材料的CVD沉积炉装置,包括炉体,炉体内部固定设置有分流板,分流板将炉体内部分为混气室和沉积室,沉积室设置在混气室上方;进气组件包括进气嘴,进气嘴包括固定板以及固定设置在固定板一侧的若干组螺旋片,相邻两组螺旋片之间设置有螺旋通道,固定板的中部开设有进气口,进气口连接有进气管,进气口与螺旋通道连通。本实用新型通过螺旋状结构的进气嘴对工艺气体进行气体扰动,提高扩散到混气室工艺气体的均匀性,提高后期扩散到沉积室的均匀性。
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