权利要求
1.高纯铜及铜合金铸锭的制备装置，其特征在于，所述装置包括：熔炼炉腔，以及自上而下设置在熔炼炉腔内的熔炼装置、铸造装置；所述熔炼装置包括坩埚、流嘴组件、可移动式托盘，所述流嘴组件插装在所述坩埚底部开设的出料口中，所述可移动式托盘设置在所述坩埚出料口的下面；所述铸造装置包括铸模、底托，所述铸模的上端开口与所述坩埚出料口正对，所述铸模设置在底托上。2.根据权利要求1所述的高纯铜及铜合金铸锭的制备装置，其特征在于，所述流嘴组件包括外导管、以及可拆卸的套装在外导管中的内管，所述外导管的外壁与所述坩埚出料口的内壁固定套接；所述外导管的下部外设有感应线圈。 3.根据权利要求2所述的高纯铜及铜合金铸锭的制备装置，其特征在于，所述外导管为锥形管，所述内管为中空圆柱形管。 4.根据权利要求1所述的高纯铜及铜合金铸锭的制备装置，其特征在于，所述可移动式托盘包括上托盘、下托杆，所述上托盘与下托杆的一端杆体之间通过四连杆机构连接，所述下托杆的另一端与设置在熔炼炉腔外部的电动推杆连接。 5.根据权利要求1所述的高纯铜及铜合金铸锭的制备装置，其特征在于，所述铸模为水冷铜模具，包括上下开口的圆筒型壳体，所述圆筒型壳体为通过卡箍连接的两个相对设置的半圆形板组成，所述圆筒型壳体的外壁设有循环冷却水管路。 6.根据权利要求5所述的高纯铜及铜合金铸锭的制备装置，其特征在于，所述铸模的顶部设有冒口。 7.根据权利要求1所述的高纯铜及铜合金铸锭的制备装置，其特征在于，所述底托为水冷铜托，包括上下封闭的中空圆筒，所述中空圆筒的底部设有进水口，侧壁上部设有出水口，所述底托设置在熔炼炉腔的底部，所述底托的底部与设置在熔炼炉腔外的伺服电机连接。 8.根据权利要求1所述的高纯铜及铜合金铸锭的制备装置，其特征在于，所述坩埚为电磁感应加热式坩埚。 9.采用如权利要求1-8任一所述装置制备高纯铜及铜合金铸锭的方法，其特征在于，所述方法包括： （1）将可移动式托盘置于坩埚出料口的下端，将出料口封住； （2）将高纯铜原料置于坩埚中经一次熔化、冷却、二次熔化、精炼，其中，当制备铜合金铸锭时，将合金原料在二次熔化过程中加入，然后得到高纯铜或铜合金熔体； （3）移动可移动式托盘脱离坩埚出料口，高纯铜或铜合金熔体经流嘴组
声明：
“高纯铜及铜合金铸锭的制备装置及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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编辑：中冶有色网
来源：有研亿金新材料有限公司 有研亿金新材料（山东）有限公司
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2025年05月23日 ~ 25日 
