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纳米级氮化钛-氮化硅复合材料的制备方法

995   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:12:01
本发明涉及一种纳米级高强度、导电性TiO2－Si3N4复合材料的制备方法，其特征在于首先用非均相沉淀法制备锐钛矿型纳米TiO2－Si3N4复合粉体，由纳米TiO2－Si3N4复合粉体原位氮化制成氧化钛－氮化硅复合粉体，然后原位氮化制成TiN－Si3N4复合粉体，加入Y2O3、Al2O3添加剂，制成TiN－Si3N4－Al2O3－Y2O3复合粉体，将TiN－Si3N4－Al2O3－Y2O3的复合粉体热压烧结而制成高强度、导电性的TiO2－Si3N4复合材料；复合材料中TiN/Si3N4=5/87～25/67，Al2O3为3，Y2O3为5(均为vol％)。本发明提供的方法制备的TiN－Si3N4中TiN/Si3N4=5/87～25/67(vol％)，在TiN含量为20－25vol％导电性最高，原位氮化后TiN颗均匀包裹在Si3N4颗粒表面，晶粒尺寸为40－50纳米；比文献报道的(30－50)vol％TiN含量低。
声明：
“纳米级氮化钛-氮化硅复合材料的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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