一种通用的多种材料间全限制纳米线的自对准制备方法,该方法包括:在衬底上生长电热绝缘材料层及再淀积第一
功能材料层;旋涂光刻胶作为牺牲层,光刻,形成条形的光刻胶掩模;通过干法刻蚀第一功能材料层至电热绝缘材料层的上表面,使第一功能材料层形成条形结构;淀积第二功能材料层;旋涂SU-8胶并电子束曝光,在条形的光刻胶掩模结构上部,制备出纳米量级的条形胶条,该条形胶条垂直并跨越条形光刻胶掩模;用该条形胶条做掩模,干法刻蚀第二功能材料层至电热绝缘材料层的表面;去除光刻胶掩模,暴露出第二功能材料层下方以外的第一功能材料层,使第二功能材料层下方形成一个悬空结构;干法刻蚀去除条形胶条下方以外的第一功能材料层;超声-剥离,完成制备。
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