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基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统及控制方法

1073   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 15:02:23
本发明涉及一种基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统及控制方法，提出基于动态分子流进样方法和累积分子流进样方法相结合的示漏气体进样系统和方法，在漏孔泄漏的气体累积一段时间后，在一套比较法正压漏孔校准系统上、实现了动态比较和累积比较两种质谱分析方法的分子流进样，突破了比较法校准正压漏孔质谱分析进样的关键技术，并且解决了累积法条件下、正压漏孔校准过程中混合气体分子流进样和微量He气累积测量的技术难题。
声明：
“基于比较法校准正压漏孔的分子流进样系统及控制方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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