权利要求
1.复合隔膜的制备方法,其特征在于,包括:
将耐热层浆料涂覆在基膜的至少一侧表面上,并进行预烘烤处理,形成亚固态的耐热层;
采用固体粉末静电喷涂技术,将多孔纳米陶瓷均匀地喷涂在亚固态的所述耐热层上,形成多孔纳米涂层;
将亚固态的所述耐热层烘干固化,制得所述复合隔膜。
2.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述基膜为聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜或聚乙烯/聚丙烯复合薄膜。
3.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述基膜的厚度为5-16µm。
4.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述耐热层浆料包括陶瓷颗粒、稳定剂、粘结剂、润湿剂和分散剂。
5.根据权利要求4所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述陶瓷颗粒的粒径为0.3-0.6µm。
6.根据权利要求4所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述稳定剂占所述陶瓷颗粒的0.5-5wt%。
7.根据权利要求4所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述粘结剂占所述陶瓷颗粒的0.5-8wt%。
8.根据权利要求4所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述润湿剂占所述陶瓷颗粒的0.1-2wt%。
9.根据权利要求4所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述分散剂占所述陶瓷颗粒的0.1-2wt%。
10.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述耐热层的厚度为0.5-2µm。
11.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,通过预烘烤处理去除所述耐热层中40-60%的水分。
12.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述预烘烤处理的温度为40-50℃,所述预烘烤处理的时间为3-8s。
13.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述多孔纳米涂层的厚度为0.1-0.3µm。
14.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述多孔纳米涂层的覆盖率为90-100%。
15.根据权利要求1所述的复合隔膜的制备方法,其特征在于,所述多孔纳米陶瓷为多孔纳米氧化铝、多孔纳米氧化硅、多孔氧化钛、多孔配位聚合物、
声明:
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我是此专利(论文)的发明人(作者)