一种采用
稀土氧化物去除工业硅中硼磷杂质的方法,涉及一种
半导体材料工业硅。提供一种采用稀土氧化物去除工业硅中硼磷杂质的方法。将工业硅原料和造渣剂放进
石墨坩埚;抽真空,启动中频感应电源加热,使石墨坩埚中的硅料和渣料熔化;待石墨坩埚内物料全部熔化后,将坩埚上方的石墨通气棒预热;向体系中开始通入惰性气体,待预热充分后将通气棒开始通气搅拌;渣过程中,通过调整中频功率,使反应温度为1550~1850℃;待造渣充分后将通气棒升离坩埚,然后通过翻转浇铸将硅液倒入石墨模具中,静置,冷却后取出硅锭,去除头尾杂质富集部分,得到提纯后的
多晶硅锭,测量熔炼后的硼、磷杂质含量。
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