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CIS系薄膜的溅镀方法

1012   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:34:16
一种CIS系薄膜的溅镀方法，包含以下步骤：在一个含有惰性气体 的减压环境内对一种含有CuInxGa1-xSySe2-y的组分并具有黄铜矿晶相的 靶材施加一个预定输出功率，以在该减压环境内产生一种含有该靶材 的组分的电浆气体，且在一基材上形成一种含有CuInxGa1-xSySe2-y的组 分并呈黄铜矿晶相的薄膜，其中，0.8≤x≤1，0≤y≤2。
声明：
“CIS系薄膜的溅镀方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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