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半导体器件及其制备方法

785   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:34:16
本发明涉及一种半导体器件及其制备方法，所述方法包括：提供半导体衬底；在所述半导体衬底上依次形成阻挡层、低K材料层以及掩膜叠层；图案化所述阻挡层、低K材料层以及掩膜叠层，以形成沟槽，选用金属材料填充所述沟槽；去除部分所述金属材料，形成开口；在所述半导体衬底上沉积金属铝并进行氧化，以在所述开口中形成氧化铝材料层。本发明中所述Al2O3通过“沉积金属Al-氧化Al”的步骤形成，并经过多次循环所述步骤得到具有一定厚度的所述Al2O3材料层，所述沉积-热氧化的方法不含有等离子电荷，从而避免了等离子体损伤效应。而且所述Al2O3材料层原位形成于所述金属铜之上，还可以进一步提高该材料层上方的覆盖层与金属铜之间粘附性。
声明：
“半导体器件及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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