一种用于材料处理的设备,该设备包括:一个用于在处理过程中容纳所述材料的隔室,所述隔室具有至少一个壁、一个用于接收有待处理的材料的入口、以及一个使材料在处理后退出该隔室的出口;以及一个辐射源以用于将电磁辐射穿透该隔室壁的一部分而引导至该隔室中,该隔室壁的该部分是至少部分地对该辐射是透明的,该辐射为微波或射频(RF)电磁辐射;其中该设备被配置为用于将该隔室中的材料的至少一部分放置成与该隔室壁的、该辐射进入到该隔室中时所穿透的这个至少部分透明的部分相接触。
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