权利要求书： 1.一种高强度、高硬度且低模量硼化钛纳米复相陶瓷的制备方法，其特征在于：采用市售的TiCxN1?x、B、B4C和Si粉体为原料，根据下列化学反应方程式进行粉体的配比：TiCxN1?x+(3x+3)B＝TiB2+xB4C+(1?x)BN(1)或TiCxN1?x+(0.75+0.75x)Si+(0.75?0.25x)B4C＝TiB2+(0.75+0.75x)SiC+(1?x)BN(2)将原料粉体混料、干燥、过筛后利用热压烧结或放电等离子体实现其致密化，得到所需复相陶瓷；
所述参数x的取值范围为：0.05≤x≤0.95，通过改变参数x的值，在一定范围内改变所制备陶瓷中BN的含量，并对其微结构和性能进行调控。
2.如权利要求1所述的一种高强度、高硬度且低模量硼化钛纳米复相陶瓷的制备方法，其特征在于，具体包括如下步骤：步骤1、混料：以市售TiCxN1?x、B、B4C和Si粉为原料，其中碳化硼和硼粉的平均粒径小于5μm，TiCxN1?x和Si粉的平均粒径小于20μm，各种粉体的纯度均大于97％；将各种原料粉体按设计的反应方程的配比进行称量，配料，以丙酮为溶剂，3mol％氧化钇稳定的氧化锆球为混料介质，进行混料，混合后所得浆料通过旋转蒸发烘干，破碎过筛后得到混合均匀的粉料；
步骤2、烧结：根据需要的样品厚度，计算所需粉体的重量，将过筛后的粉体倒入石墨模具中，在热压烧结或放电等离子体烧结的环境下对其进行烧结，烧结环境为真空或流动的氩气气氛，通过改变烧结温度、保温时间，加载压力，升温速度实现复相陶瓷的致密化和性能优化。
3.如权利要求2所述的一种高强度、高硬度且低模量硼化钛纳米复相陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤2中烧结温度范围为1650℃?2000℃。
4.如权利要求2所述的一种高强度、高硬度且低模量硼化钛纳米复相陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤2中保温时间范围为5?120min。
5.如权利要求2所述的一种高强度、高硬度且低模量硼化钛纳米复相陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤2中加载压力范围为5?75Mpa。
6.如权利要求2所述的一种高强度、高硬度且低模量硼化钛纳米复相陶瓷的制备方法，其特征在于，所述步骤2中升温速度范围为10?100℃/min。
说明书：
声明：
“高强度、高硬度且低模量硼化钛纳米复相陶瓷的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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编辑：中冶有色网
来源：武汉理工大学
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2025年06月06日 ~ 08日 
