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本发明公开了一种酶促化学发光试剂组合物，该组合物包含酶促化学发光底物II、长链季盐表面活性剂及荧光表面活性剂，该酶促化学发光底物II具有如下的结构：。本发明提供的化学发光试剂组合物，应用于酶免疫检测，具有酶免疫检测所需的低噪音和高灵敏度的特点，可广泛应用于大型自动化酶免疫分析仪。本发明的化学发光试剂组合物用于酶免疫检测，底物用量减少到原传统配方用量的十分之一；检测波长范围更窄，在530~540?纳米之间，避免了传统化学发光所发出的460~470纳米波长光的干扰，大大降低了检测噪音，提高了检测信噪比，比传统的化学发光试剂具有更优异的性能。
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本发明涉及一种中性的阴离子荧光化学传感器，并提供了制备该中性阴离子荧光化学传感器的方法及其用途，属生物分析和医药生物学领域。本发明所述的一种中性阴离子荧光化学传感器为一种以胆酸分子骨架为基础，同时引入两个中性阴离子键合基和荧光探针分子，使得其在溶剂中对生物二羧酸阴离子具有特定的荧光响应。具体而言是以胆酸分子为分子骨架，在其3位碳原子和24位碳原子上引入中性硫脲或脲基，作为键合单元；在3位碳原子和24位碳原子上或其他位置引入具有荧光化学官能团，作为信号单元，合成中性阴离子荧光化学传感器。传感器可以在溶液中选择性灵敏响应二羧酸阴离子，最低检测浓度可达10－8mol/L，其灵敏性检测在生物分析和医药生物学中具有重要价值。
一种测试条及其制备方法和利用该测试条同时 检测药物中芦丁和维生素C的方法，其测试条是由一金基体电 极及一层修饰在金基体电极上的氨基乙硫醇构成。测试条制备 时先打磨、抛光并用超纯水清洗金基体电极表面；清洗过后的 金基体电极用水淋洗后置于 H2SO4溶液中在－0.2～1.5V的电位范围内进行循环伏安扫描处 理；将处理好的金基体电极置于氨基乙硫醇水溶液中进行自组 装，自组装完毕后取出、用水超声清洗，再用水淋洗后即可。 本发明利用氨基乙硫醇在pH中性溶液中的荷正电性，使抗坏 血酸的氧化电位在修饰电极上较裸电极上发生了明显的负移， 并与芦丁的氧化电位相分开，实现了直接电化学检测法、同时 测定药物中芦丁和维生素C的含量目的。
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本发明公开了一种实现单管离子迁移谱仪同时检测正负离子的高压电源，包括控制区高压和漂移区高压两部分，其特征在于，该高压电源还包括高压正负极性切换控制机构，所述的高压正负极性切换控制机构在离子迁移谱仪单次分析过程中将正负高压先后加到漂移管上，且在正或负高压下控制离子肼、门的时序，有效地完成单次分析过程中对正负离子的同时检测。采用本发明提供的方案，能够实现单管离子迁移谱在一次分析10秒钟的时间内进行40次以上的正负模式切换，交替进行正负离子的检测，同时给出正负离子的检测结果，达到同时检测爆炸物、毒品、化学毒剂及有毒有害气体的目的，为安检工作提供便利。
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本发明属于分析技术领域，具体公开了一种电化学质谱联用仪，包括载气进样系统、电化学池、多通道电化学工作站、多通道质谱仪；所述电化学池为电池反应发生的装置；所述的多通道电化学工作站具有多通道分析接口，用于设置电化学池的工作参数，提供电化学池里反应的电化学分析数据；所述的多通道质谱仪具有多通道进样口，电子电离源，法拉第杯和电子倍增器双检测器，可实时记录和显示各个通道产物的成份、含量及其随时间的变化情况，提供电化学池里反应产物的质谱分析数据。该电化学质谱仪能够实时检测反应产物，满足实验室和企业的需求。
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本发明属于生物芯片技术领域,具体为一种新型数字微流控技术的电化学传感器芯片。该芯片由三部分构成:从下至上依次为:液滴控制单元、液滴通道、电化学单元。其中液滴控制单元从下到上由第一衬底、第一绝缘层、第一电极层、第二绝缘层和第一疏水层构成;电化学单元从下到上依次为:电化学电极组、第二疏水层,第二电极层,第三绝缘层和第二衬底;当第一衬底和第二衬底为绝缘材料时,第一绝缘层和第三绝缘层省去;电化学电极组包括对电极、工作电极和参比电极,且所述电化学电极组覆盖在第二疏水层的下表面;液滴通道为液滴控制单元和电化学单元中的空气间隙。本发明结合了数字微流控技术和电化学传感器技术的优点,为生化分析提供了一种新型的微分析器件,减少样品需求量,提高了检测速度,可实现检测所需的多种液体样本的输送,并实现在线检测。
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本发明提供了一种铝-碳复合材料界面反应程度的定量检测方法，所述方法利用界面反应产物Al4C3易于水解的性质，首先藉助电化学反应加速待测样品溶解，然后通过气相色谱分析对Al4C3水解所生成的CH4气体浓度进行精确测定，最终计算得到界面反应程度。本方法不仅操作简单，而且检测分析速度快、精度高，适用于对碳纳米管、碳纤维、石墨烯、石墨鳞片及石墨颗粒、金刚石、碳化硅等各种碳质材料增强铝基复合材料的界面反应程度进行快速定量检测。
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本发明提供一种检测装置及其对检测样品进行检测的方法、检测系统，检测装置包括电化学传感器、线圈和电路部件，所述电路部件连接所述电化学传感器和所述线圈，通过所述线圈与外部读写器实现无线通信并获取电能，以驱动所述电化学传感器对检测样品进行检测，并将检测结果通过无线通信的方式发送至所述外部读写器。本发明提供的检测装置与外部读写器进行无线通信和非接触供电，降低了外部读写器被检测样品污损和感染的风险；且由于检测装置无需自带电池和接触式供电，使得其外形轻薄，能够进行方便的携带、存储与运输，在使用后废弃处理过程中，也会降低环境污染。
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本发明公开了一种电化学生物传感系统，包括：一集成于手机中的电化学检测器；一运行于手机中的电化学分析模块；一生物传感芯片；一转接器，用于连接所述电化学检测器及所述生物传感芯片。本发明的电化学生物传感系统中的电化学检测器与手机完全集成于一体，体积小巧、操作方便，便于携带。电化学分析模块集成于手机内部，避免了电化学检测过程中外界环境的影响及干扰。该系统不仅具备手机的所有功能，且可以实现方便、快捷的电化学生物传感检测，且能与手机其他功能及应用兼容，可实现数据的实时处理、分析、多样化传输及网络共享。
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本发明提供一种研磨‑化学机械抛光氮化镓晶圆片的方法，所述方法至少包括对所述氮化镓晶圆片的镓面进行处理的步骤：首先将所述氮化镓晶圆片固定于研磨平台上，镓面面向研磨头；然后利用XRD测量方法确定所述氮化镓晶圆片的研磨基面，将具有一定目数的研磨头与所述研磨基面平行并压覆于所述镓面上，在研磨液作用下将所述镓面研磨至第一粗糙度；接着更换研磨头至更高目数，重复上一步骤直至将所述镓面研磨至第二粗糙度，所述第二粗糙度小于所述第一粗糙度；最后将所述氮化镓晶圆片固定于化学机械抛光平台上，将所述镓面抛光至符合工艺要求的表面粗糙度。通过本发明的方法为直接研磨方式，简化了工艺步骤，降低物料消耗，缩短工艺时间，降低破损率。
本发明公开一种基于平推流反应动力模型的等温化学气相渗透（ICVI）的可编程控制器（PLC）-工控机（IPC）控制系统，包括工控机IPC、与工控机IPC进行通讯的PLC控制器、真空隔膜泵、加热单元、质量流量阀，以及流量、压力和温度传感器和I/O接口，工控机IPC包括人机界面（HMI）、有效滞留时间计算单元和流量计算单元；PLC控制器包括三个控制回路，为压力控制回路、温度控制回路和流量控制回路。本发明基于工控机IPC和PLC控制器的优势，对原有的控制系统进行了全面的改造，将现有的详细反应机理应用到气相渗透炉的工艺参数控制和优化中，通过平推流的动力学模型对有效滞留时间这一中间测量量进行实时的计算，达到对其有效的控制。
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本发明公开了一种化学增幅光刻胶等效扩散模型的建立方法,可同时考虑掩膜板图形的图形分布密度对于光刻胶扩散长度的影响,从而可以建立更为准确的光刻胶等效扩散模型,提高对光刻工艺各项参数的模拟结果的精确度。包括以下步骤:(1)测量光刻胶对一组不同类型的测试图形在不同图形分布密度时的光刻工艺参数;(2)通过空间像模拟解算出光刻胶光酸对所述不同类型的测试图形在不同图形分布密度时的等效扩散长度值;(3)建立光刻胶光酸的等效扩散长度对各种类型的测试图形在不同图形分布密度时的函数或者表格;(4)根据待模拟图形的图形类型及图形分布密度,选择该待模拟图形相应的最佳等效扩散长度值。
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本发明公开了一种化学机械研磨装置以及化学机械研磨方法,该化学机械研磨装置包括:研磨平台;驱动装置,与所述研磨平台连接,用于驱动所述研磨平台旋转;传感器,与所述研磨平台连接,用于测量研磨平台的转速并将所述转速转换为转速信号;控制器,与所述传感器连接,用于接收传感器输出的转速信号并根据所述转速信号输出报警信号,以启动报警装置报警。所述传感器可测量所述研磨平台的实际转速,一旦所述研磨平台的转速出现异常,所述控制器可根据传感器输出的转速信号输出报警信号,操作人员即可知晓所述化学机械研磨机台出现故障并及时处理晶片,从而避免晶片报废。
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本发明公开了一种STI CMP工艺窗口确定方法,首先,在最佳估计的研磨时间上下递增和递减时间,记录下氮化硅残留的膜厚以及相对应的时间;然后对所有的硅片进行光学显微镜观察;接着,对所有无色差的硅片跳过氢氟酸腐蚀,直接用磷酸腐蚀,然后,对所有硅片进行光学显微镜观察;最后将CMP研磨时间工艺窗口的低段和高段之间的氮化膜的差以及所对应的研磨时间段确定为STI CMP工艺窗口。本发明可以有效而快速地建立起STI CMP研磨时间的工艺窗口,为后续优化工艺,缩短开发时间,提高产品良品率奠定基础。适用于半导体集成电路制造中的STI工艺。
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本发明提供一种化学消融导管、化学消融系统及医疗系统，所述化学消融导管可以与外部化学消融控制单元、封堵控制单元、脉冲发生控制单元配合使用，可以封堵目标组织，并向目标组织注入化学消融介质且释放脉冲电场，进一步的还可与电生理信号记录单元配合使用，标测消融效果，因此，可简化现有Marshall静脉化学消融的手术操作，提高消融的有效性和安全性。
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本发明提供了一种化学气相沉积设备的安装方法及化学气相沉积设备,其安装方法包括步骤:将晶舟安装在基座上,且在所述晶舟一侧设置有投影板;在所述投影板设置参照物;第一光束照射所述晶舟,使所述晶舟投影到所述投影板上形成晶舟投影;沿所述基座的中心轴旋转所述基座,且上述晶舟和所述基座一起旋转,测量在旋转过程中所述晶舟投影与所述参照物之间的距离,当旋转过程中所述距离发生变化时,则调整所述晶舟在所述基座上的位置,从而使得安装时晶舟能位于反应腔室中心。
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本发明提供一种化学机械抛光方法及化学机械抛光装置，充分考虑了化学机械抛光装置上的晶片载体随着长时间使用而导致的厚度变化对半导体晶片的抛光效果的影响，在设定用于半导体晶片抛光的工艺参数之前，先测量晶片载体的厚度，并计算出测得的晶片载体的厚度与待抛光的半导体晶片在完成抛光后的目标厚度之间的差值(即晶片载体相对抛光后的半导体晶片的突出量或者抛光后的半导体晶片相对晶片载体的突出量)，然后根据该差值设定用于半导体晶片抛光的工艺参数，当采用这组与该差值相关的半导体晶片抛光的工艺参数对该半导体晶片进行抛光后，该半导体晶片最终抛光后的抛光面的平整度会增加，因而提高了抛光效果。
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本发明提供了一种可利用高色度含醇废水氢-电联产的光化学电池装置。包括：以疏水多孔膜将反应器分为两区，阳极液为高色度含醇废水，阴极液为酸性溶液；以沉积铂黑的镀铂片作阴极；将负载TiO2光催化剂的旋鼓作阳极，通过转轴控制转速，在其表面形成微米级的液膜；激发光易于透过液膜照射到催化剂表面，产生空穴和电子，空穴氧化有机物后复合，可再被光激发，电子则通过外电路流入阴极区还原产氢；对阴极区氢气进行取样测定，并对外电路电流实时监测，完成利用高色度含醇废水实现氢-电联产的过程。本发明实现了同步产电、产氢、处理高色度含醇废水的三重功效；无需外加电压，实现了将有机污染物的化学能转化成氢能和电能等清洁的能源形式。
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本发明提供了一种用于二氧化碳的电化学还原的电化学反应器，该装置属于三腔室反应器，由两种隔膜(即阴离子导电聚合物薄膜和聚丙烯薄膜气体扩散电极)分隔三块有精密尺寸凹槽和开孔的透明有机玻璃板材构成；所述三腔室反应器包含有：气体腔室、阴极电解液腔室和阳极电解液腔室。所述气体腔室包括聚丙烯薄膜气体扩散电极聚丙烯薄膜一侧，阴极电解液腔室包括由银基催化剂作阴极的聚丙烯薄膜气体扩散电极催化层一侧，所述阳极电解液腔室包括具有混合金属氧化物催化剂的阳极。本发明的电化学反应装置整体采用材质透明、硬度较高、既耐碱性又耐酸性的有机玻璃，易于精密加工和组装，便于直接监控、观测电化学反应，且反应测试期间无二次污染。
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湿化学共沉淀制备的氧化锆(Mg—PSZ)的封接 工艺，介绍了一种用固体电解质陶瓷(Mg—PSZ)与 玻璃、陶瓷及合金的封接，可分别采用煤气—氧气混 合焰的普通灯工吹制及退火技术；中温封接及中、低 温范围不同降温速率的封接。 本发明工艺简单，封接件可达真空气密或氦检气 密的要求。特别是由于Mg—PSZ可与合金进行封 接，拓宽了Mg—PSZ作为氧敏器件的技术应用范 围。
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一种化学机械抛光方法，包括：将待抛光的晶片放置于化学机械抛光设备中，对晶片进行化学机械抛光，还包括通过清洗溶液对晶片进行清洗，实时测量清洗晶片后形成的处理溶液的开路电位，在处理溶液的开路电位达到开路电位阈值时，停止清洗。相应地，本发明还提供一种用于化学机械抛光的清洗装置，包括清洗单元、取样单元、实时测量单元、阈值测量单元和控制单元。本发明可以有效减少晶片表面的有机残留物。
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本发明为一种高纯度10-羟基喜树碱的化学半合成工艺,它以20(s)-喜树碱为原料,经过优化的N-氧化和光化学重排反应,产物经硅胶柱层析,即得到高纯度的10-羟基喜树碱。本工艺操作条件简便,反应试剂可回收利用,生产成本低,10-羟基喜树碱产品收率高,产物易分离,纯度达98.5%,符合国家药检标准。
本发明涉及一种用于对样气进行检测的设备，设备包括火焰离子化检测器，火焰离子化检测器包括样气进口、燃烧气体进口和助燃气体进口，在火焰离子化检测器中，流入火焰离子化检测器的样气在由燃烧气体和助燃气体生成的火焰的作用下发生电离，由此产生用于对样气进行化学分析的信号，设备还包括补偿气体供应装置，以向火焰离子化检测器提供补偿气体，以消除或减轻由样气中本身存在的氧气所造成的干扰，补偿气体为含氧气体。本发明还提供一种借助火焰离子化检测器对样气进行检测的方法。借助该设备和方法，可解决含氧气的样气中的氧气对检测结果的干扰问题。
本发明涉及涂层导体Ni-5at.％W合金基带的电化学抛光方法，以Ni-5at.％W合金基带作为阳极，以纯镍片作为阴极，将Ni-5at.％W合金基带在静态下浸渍于电解抛光液中，开启电源对Ni-5at.％W合金基带进行抛光处理，抛光处理后的合金基带再经去离子水反复冲洗，并用无水乙醇脱水、风机吹干即可，电解抛光液为磷酸、硫酸、乙二醇按体积比为2-4∶3-5∶2-3混合而成的电解抛光液。与现有技术相比，本发明抛光后的合金基带通过原子力显微镜分析，在5×5μm范围内RMS小于1纳米，消除了由RABiTS制备基带产生的晶界沟槽效应，且对原始基带立方织构无影响，满足涂层导体对基带表面平整度的要求。
本发明涉及一种基于MXene的纸基双层电极电化学汗液传感器及其制备方法，所述传感器在纸基材料上具有多组双层结构的三电极体系，分别为参比电极、对电极和经MXene材料修饰的工作电极，利用蜡打印技术使纸基材料亲疏水区域通过折叠在层间形成多条微流控通道实现汗液的收集、流通、检测和扩散功能。本发明的传感器实现了无创式多物质同步检测人体汗液的功能，具有广泛的应用前景。
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本发明提供了一种低压化学气相沉积设备以及低压化学气相沉控制方法。根据本发明的低压化学气相沉积设备包括:真空泵;采集器;布置在真空泵与收集器之间的主阀门;工艺导管;以及布置在工艺导管中的气流方向检测装置。根据本发明的低压化学气相沉积设备能够在真空泵突然出现故障时防止工艺副产品的出现、并防止加工中的晶片报废,因此,所述低压化学气相沉积设备能够提高成品率,由此降低工艺成本。
本发明公开了一种化学机械研磨设备(CMP)及使用该CMP的研磨方法,其中CMP包括:用于固定待研磨的晶片的研磨头;旋转台和固定在所述旋转台表面的研磨垫,所述旋转台旋转研磨垫使得研磨垫与研磨头之间相对运动,以对晶片进行研磨;用于供给磨料至研磨垫上的磨料供给装置;用于调节供给至研磨垫上的磨料的分布的研磨垫整理器;以及用于检测研磨垫整理器与研磨头之间的距离的检测器,以防止研磨垫整理器与研磨头接触。当检测到所述距离小于等于预定值时,所述检测器发出预警信号。本发明中的化学机械研磨设备在晶片研磨过程中能够降低研磨垫整理器和研磨头发生碰撞的几率,提高研磨头及研磨垫整理器的使用寿命,同时提高了CMP设备的使用寿命。
发明提供了一类化学发光强度高、波长长、稳定性好的化学发光底物及其制备方法和应用。所述化学发光底物具有式Ⅰ所示结构。另外，本发明提供了所述化学发光探针在生理环境下的自发荧光波长及强度，及其在活体成像中的应用。测试结果表明，本发明中提供的的化学发光探针具有长波长的自发荧光(600nm)，能有效的穿透皮肤组织，高自发荧光强度(>107p/s/cm2/sr)，优异的热稳定性(不含1,2‑二氧杂环丁烷结构)及多样化的检测基团(适用于不同检测模型)。
本发明涉及一种基于纳米银‑氧化铜颗粒/石墨烯的无酶电化学葡萄糖传感器的制备方法，包括以下步骤：(1)分别称取银盐和铜盐溶于水中，混合，得到银铜前驱体溶液；(2)取氧化石墨烯分散于去离子水中，得到氧化石墨烯分散液；(3)将银铜前驱体溶液和氧化石墨烯分散液混合后，调节pH，水热反应，分离干燥，得到Ag‑CuO纳米颗粒/石墨烯复合材料，分散在无水乙醇中；(4)再取备用悬浮液滴加到玻璃碳电极上，干燥，即得到Ag‑CuO纳米颗粒/石墨烯电极；(5)再将其与对电极、参比电极组成三电极体系与电化学工作站相连形成电化学传感器，即得到目的产物。与现有技术相比，本发明制备的传感器对葡萄糖的检测具有高的灵敏度，低的检测限和宽的检测范围，而且成本低，环保无害等。
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一种化学机械抛光装置及化学机械抛光的方法，其中，化学机械抛光装置包括：基座；固定于基座表面的研磨垫，研磨垫内具有检测窗，检测窗表面与研磨垫表面齐平，检测窗为透光材料；位于基座内的光头，光头位于检测窗下方，且光头与检测窗之间为空腔；固定于基座内的位置调节装置，位置调节装置与光头连接；位于研磨垫上方的检测装置，检测装置位于研磨垫上方，检测装置到研磨垫中心的水平距离、与第一检测装置到研磨垫中心的水平距离一致；分别与位置调节装置和第一检测装置连接的控制器，控制器根据检测装置检测的研磨垫减薄的厚度，控制光头下降相同距离。所述化学机械抛光装置光学终点检测精确。
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