本发明提供了一种低压化学气相沉积设备以及低压化学气相沉控制方法。根据本发明的低压化学气相沉积设备包括:
真空泵;采集器;布置在真空泵与收集器之间的主阀门;工艺导管;以及布置在工艺导管中的气流方向检测装置。根据本发明的低压化学气相沉积设备能够在真空泵突然出现故障时防止工艺副产品的出现、并防止加工中的晶片报废,因此,所述低压化学气相沉积设备能够提高成品率,由此降低工艺成本。
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