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研磨‑化学机械抛光氮化镓晶圆片的方法

941   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:55:31
本发明提供一种研磨‑化学机械抛光氮化镓晶圆片的方法，所述方法至少包括对所述氮化镓晶圆片的镓面进行处理的步骤：首先将所述氮化镓晶圆片固定于研磨平台上，镓面面向研磨头；然后利用XRD测量方法确定所述氮化镓晶圆片的研磨基面，将具有一定目数的研磨头与所述研磨基面平行并压覆于所述镓面上，在研磨液作用下将所述镓面研磨至第一粗糙度；接着更换研磨头至更高目数，重复上一步骤直至将所述镓面研磨至第二粗糙度，所述第二粗糙度小于所述第一粗糙度；最后将所述氮化镓晶圆片固定于化学机械抛光平台上，将所述镓面抛光至符合工艺要求的表面粗糙度。通过本发明的方法为直接研磨方式，简化了工艺步骤，降低物料消耗，缩短工艺时间，降低破损率。
声明：
“研磨‑化学机械抛光氮化镓晶圆片的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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