有色金属电冶金设备

1200℃小型8通道管式炉(高通量烧结) 237     

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GSL-1200X-MGI-8是一款1200℃小型8通道管式炉，其炉管直径为20mm，可用于高通量烧结，最高温度可达1200℃。每个加热模块都由独立的温控系统控制，每个炉管采用真空法兰密封，可同时放入8个样品，在真空或气氛保护环境下进行不同温度的热处理，占地小，能耗低，是高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测用的理想产品。

1200℃高温箱式炉(27L) 239     

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1200℃高温箱式炉（27L）KSL-1200X-M炉膛体积为27L，采用高纯氧化铝作为炉膛材料，且表面涂有高温氧化铝涂层，以提高加热效率和保持炉膛洁净度，延长使用寿命。温控系统采用PID方式调节温度，可设置30段升降温程序，最高工作温度可达到1200℃。

带滑动法兰三温区CVD系统 236     

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带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加热至1200℃，并通过调整三个温区而建立不同梯度的热场，可进行退火、扩散、在不同气氛中烧结样品及CVD等实验。

快速升温CVD系统 247     

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快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品（尺寸可达3″ ）的退火而设计，配有3路流量计和机械泵。本机采用 9KW的红外灯进行加热，最快升温速度可达 100℃/s，配有RS485 接口，可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。

1200℃台式箱式炉(7.2L,含通气孔或观察窗) 234     

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1200℃台式箱式炉（7.2L，含通气孔或观察窗）KSL-1200X采用瑞典康泰尔电阻丝为加热元件，最高温度可达到1200℃，连续工作为1100℃。本机具有表面温度低、升降温度速率快、温场均衡及节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业进行高温烧结、金属退火、质量检测的理想设备。

1400℃小型管式炉 183     

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1400℃小型管式炉GSL-1400X是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置30段升降温程序，最高温度可达1400℃。

1800℃高温真空管式炉 237     

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1800℃高温真空管式炉GSL-1800X-S内膛中嵌有ZrO2内衬，并采用Kanthal Super-1900硅钼棒为加热元件，最高温度可以达到1800℃，广泛用于真空或惰性气体保护状态下，新材料样品的烧结和退火。

大口径管式炉 234     

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GSL-1100X-XX-S是一款双温区的大口径管式炉,炉管两端安装有铰链式不锈钢密封法兰。此款管式炉可广泛地应用于在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结或退火等热处理。温控方面，设备可达到最高温度为1100℃，可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃。

小型1000℃RTP炉 244     

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小型1000℃RTP炉OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4"石英管和真空法兰，是专为半导体或太阳能电池基片（最大3"）的退火而设计。本机采用10KW红外灯管加热，最快升温速度为 50℃/s，设有30段温度控制，精度为±1℃。此外，通过RS485口和控制软件可在计算机上实现实时控制和温度曲线显示。

1000℃卧式马弗炉 131     

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1000℃卧式马弗炉炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件，且均匀地分布六面墙体，有效的保证了温场的均匀性。测温采用性能稳定、长寿命的“S”型热电偶，以提高控温的精准性。

小型高温高压管式炉 294     

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小型高温高压管式炉OTF-1200X-HP-12炉管采用镍基合金钢制作而成，最高温度可达1100℃，同时可向炉管中通入氧气、氮气、水蒸气及惰性气体等。

微波高温马弗炉 353     

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MF型微波高温马弗炉是实验室专用的标准微波高温设备，适用于空气气氛条件下微波合成、微波灰化、微波膨化、微波热处理、微波焙烧、微波煅烧、微波烧结等工艺实验研究。

金属晶体生长炉 464     

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SKJ-M50-16金属晶体生长炉是用坩埚下降法生长金属晶体的设备，可在真空、大气、惰性气体或其他保护气氛下、在可控的局部压力状态下运行。根据金属的属性，本机可采用中频感应加热电源，以及石墨电阻加热两种加热方式；采用欧陆微处理器与热电偶闭环控制炉温，使结晶体按照一定的直径进行控制。

微型管式炉 237     

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GSL-1000X-S是一款微型管式炉（管径：20mm），最高温度可达到1000℃，标配内包含不锈钢密封法兰与石英管，客户接通电源即可立即使用。30段可编程精密温度控制器,可根据不同的客户需求来设定升降温程序。炉体可垂直或水平放置以满足不同的应用，如样品热处理、VSL、CVD 以及气体分析等实验工艺中。

熔炼铸造炉 247     

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VIMC-150熔炼铸造炉适用于铂、钯、钛、黄金、K金、银和铜等金属铸造，广泛应用于学校、实验室、珠宝首饰、牙科铸造和工艺品铸造等相关行业领域，采用智能西门子控制系统 ，可连续24小时工作；在真空和惰性气体保护下，全自动真空倒模成形，成品无氧化、密度高和无沙孔；全自动铸造过程，融化时间5-6分钟；铸造方法是反转式真空加压铸造方式。

1100℃带校准系统管式炉 244     

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GSL-1100X-50-LVT 是一款已通过CE认证的1100℃分体式真空管式炉. 标配内包含KF25 转接口、 进口数显真空计 、双旋片机械泵 、 油雾过滤器,另外配有OMEGA 测温仪及K 型热电偶 一套, 可将K型热偶从左端法兰安装于炉管内部从OMEGA测温仪上读取样品实时温度. 30段可编程温度控制仪，可按不同客户的实验要求设置所需要的升温速率，控温精度±1℃.炉体在加热过程中真空不能高于1E-2 Torr使用，否则容易造成炉管的损坏。

1700℃立式高温管式炉 334     

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1700℃立式高温管式炉GSL-1700X-80VT采用硅钼棒进行加热，最高温度可以达到1700℃，专门针对于材料在真空或气氛保护环境下的烧结。温控系统采用PID控制器，可设置30段升降温程序，控温精度为± 1℃。

1200℃三温区可倾斜旋转炉 246     

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1200℃三温区可倾斜旋转炉OTF-1200X-5L-R-III主要针对于粉料的混烧，炉管可360°转动，且内部设有4片扬料板，可增加粉料烧结的均匀性，因而适合于实验室中较多粉料的烧结，特别是锂电材料的烧结，如LiFePO3、LiMnNiO3等。

1200℃立式真空小管式炉 249     

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1200℃立式真空小管式炉OTF-1200X-S-VT是一款小型开启式立式管式炉，适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。采用PID控制器进行温度调节，可设置30段升降温程序，控温精度为± 1℃。

混气系统4路质子 240     

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混气系统4路质子GSL-4Z是用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉，这种气体控制系统安装在移动架内，管式炉可以放在移动架上面，气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀，可以用于CVD系统及退火炉，用来研究气体环境对材料的影响，在半导体和集成电路工业、特种材料学科、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的作用，广泛应用于电子工艺设备，如扩散、氧化、外延、CVD、等离子溅射以及镀膜设备、光纤熔炼、混气配气系统及其它分析仪器。

高真空钽加热炉 238     

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高真空钽加热炉是高温电阻加热炉。以钽为加热元件，适用于高真空状态下对金属、非金属及其化合物进行烧结、熔化，也可以对小型样品进行真空钎焊的操作，如硬质合金、镍基合金、粉末冶金、镍钴合金、合金钢、不锈钢、稀土钕铁錋等。高真空钽加热炉极限工作温度为2000℃，工作最高温度1800℃，工作过程中的加热速度可以通过温控表进行设置，但升温速度过快会使钽炉胆的寿命会有所降低，为了延长炉子的使用寿命，推荐每分钟的升温速度为20℃，在500℃以下可以适当加快升温速度。

1200℃开启式双温区管式炉 233     

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1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-II最高温度可达到1200℃，并可通过调节两个独立的控温程序，使炉管内温度场形成一梯度。本机可用CVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。

1200℃单管滑动快速加热冷却炉 230     

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1200℃单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL底部安装一对滑轨，可手动进行炉体移动，最高工作温度达1200℃，加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10℃/s。为获得最快加热，可预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置；为获得最快冷却，可在样品加热后移动炉子至另一端，本机是低成本进行快速热处理的理想设备。

1500℃三温区开启式管式炉 175     

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1500℃三温区开启式管式炉OTF-1500X-III是高温管式炉，最高温度可达1500℃，三个温区分别用三个独立的温控系统控制，每个温区都可以设置30段升降温程序，并设有过热和断偶保护功能，控温精度高达±1℃。本机特别适合于在气氛保护或真空环境下对样品进行退火和烧结。

微波气氛烧结炉 342     

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QS型微波气氛烧结炉是标准化多功能微波高温实验工作站，适用于各种气氛、真空条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究。

微波高温管式炉 348     

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LZG型微波高温管式炉是标准化多功能微波立式气氛管式炉，适用于各种气氛、真空条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究，尤其适用于各种气固相、气相反应、合成反应、分解反应等。

小型钛金属反应釜 244     

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RC-Ti-100小型钛金属反应釜是由纯钛金属制作而成，最大可耐4Mpa的压力，是制备先进材料，尤其是水热法合成生物材料的理想工具。

800℃高压炉 366     

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800℃高压炉OTF-1200X-HVHP-80是高温高压管式炉，炉管采用 SS310S镍基合金钢制作而成，两端配有法兰和阀门，专为在105 PSI高压下使用，可在通入氧化或惰性气体的气氛下，处理特殊的化合物。

微波管式炉 255     

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ZG型微波管式炉是标准化多功能微波管式实验工作站，适用于各种气氛条件下的合成、焙烧、热处理、烧结等工艺研究。

1200℃开启式立式炉 357     

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1200℃开启式立式炉OTF-1200X-80-VT是可垂直开启式管式气氛炉，能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温。本机可垂直安装在可移动的支架上，方便炉管的取放。