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铝用空气反应性测试仪（GCTKK-700）是一款用于测定预焙阳极和侧部炭块空气反应性的设备，符合ISO 12989-1、YS/T 63.11、YS/T 964等多项标准。仪器采用钣金外壳和静电喷塑工艺，具备良好的耐磨性和耐腐蚀性，配备PLC控制系统，支持智能化实验过程和远程监控。其技术参数包括额定功率1.5KW、最高温度700℃、流量传感器精度4%等，具有隔热性能好、温度控制精度高、气体流量稳定等优势。设备尺寸为750mm×700mm×1600mm，总重量150kg，标配包括说明书、合格证和保修单，还可选配毛刷。
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炭块碳材料热膨胀系数测定仪（GCTKP-700）是一款用于测量石墨电极、铝用碳素材料等固体材料热膨胀系数的仪器，符合多项国内外标准。仪器采用钣金外壳和静电喷塑工艺，具备良好的耐磨性和耐腐蚀性。它配备PLC控制系统，支持智能化实验过程和远程监控，操作简便，测量精度高。产品适用于室温至600℃的石墨电极和20℃至300℃的铝用碳素材料的热膨胀系数测定。其技术参数包括额定功率1.7KW、测温范围室温至700℃、位移传感器精度±0.001mm等，具有隔热性能好、温度控制精度高、测量数据准确等优势。
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高精度多功能固液体比重计DE-120T精度高、性能、密度精度高达万分之一，具有波美度测量功能，可满足多孔性物质测量，更适合小产品密度检测。
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经济型盐酸密度测定仪本系列产品是根据阿基米德原理密度法，自动显示盐酸浓度值HCL%、波美度Be、密度SG;具有测量、操作快速简便、可靠性高等主要特点; 同时可转换温度20℃状态下盐酸浓度值。
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高再生料密度检测仪（AU-300S、AU-600S、AU-900S、AU-1200S、AU-120S、AU-200S）是Quarrz科思公司推出的升级换代产品，适用于橡胶、塑胶、金属材料、陶瓷、玻璃制品等多种材料的密度测量。该系列产品可靠性高，解决了传统产品的常见问题，如测量不稳定、数据不准确等，同时提升了测量精度，简化了操作步骤，升级了软件功能。产品符合多种国际和国家标准，如ASTM、GB/T、ISO等，能够测量固体、液体、粉末等多种物质的密度，密度范围大于1或小于1的材料均可测试。其特点包括快速免翻盖设计、10组数据存储、自动计算平均值、实际水温补偿等。
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这是一款科学级开尔文探针，用于精确测量半导体和导电材料的功函数，分辨率达到0.1 meV。它采用非接触式振荡电容测量方法，参考金的功函数（5.1 eV），适用于研究腐蚀、吸附/解吸、表面充电、催化活性等表面特性。系统配备激光笔、数码显微镜和电动垂直定位系统，精度为10微米，还可选装X-Y定位功能。结合宽带光导和高压氙弧灯，可实现表面光电压光谱测量，光电压分辨率优于5 mV（长集成时间为0.1 mV），适用于研究光催化剂、太阳能电池等光活性材料。
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扫描开尔文探针是一种高精度的表面电学特性测量仪器，能够测量样品表面的接触电位差（CPD）、功函数、费米能级位置、表面电位、表面吸附对功函数的影响等参数。它配备光源和激光屏障系统，可实现高精度的距离检测和样品表面照明，适用于多种材料（包括半导体、电介质）的表面分析。仪器包括控制器单元、探针尖端、法拉第笼、电动XY工作台等组件，探针尖端采用2.5mm直径的Au网设计，提供高信噪比。法拉第笼可保护仪器免受环境干扰，还可选择气密版本以适应敏感测量需求。
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半球型电子能量分析谱是一款高性能的电子能谱分析设备，具备120mm半径的大型高透射半球形分析器和全程180度反转角度，采用Jost电极进行边缘校正，配备全磁屏蔽和金属衬里真空外壳，确保高精度和稳定性。设备支持电脑控制电源、多个光学透镜和6个可选入口狭缝，提供单通道或多通道检测器选择，多通道检测器还可配备高分辨出口狭缝。搭配SPECTRA V8软件，用于高效的数据采集和处理，广泛应用于材料表面电子结构和化学状态的分析。
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磁控溅射靶源是一种专为超高真空系统（1e-11 Torr）设计的商业用溅射源，能够在不配置弹性垫圈的结构中烘烤至250℃，实现超高纯度的溅射沉积。它适用于金属、电介质和复合物的沉积。设备提供多种靶材尺寸（如1英寸、2英寸、3英寸等），靶材厚度最低可达4mm，有效节约靶材。溅射源法兰带有气体管道，提升溅射操作时的真空度。支持手动或马达驱动挡板，可原位倾斜（±30°），配备气体流量控制，支持全自动化进程，冷却水流量低（仅0.5L/min），占用空间小，适合高真空环境使用。
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合金纳米颗粒UHV沉积源是纳米颗粒沉积源，可在超高真空中将纯纳米颗粒和合金纳米颗粒沉积到样品上，从而形成功能性涂层。此外，我们可以通过精确控制纳米颗粒的大小、组成和结构来定制纳米颗粒涂层的性能。此外，还提供以下源：单个 1英寸源（NL-D1）、一个 2 英寸源 （NL-D2） 或三个 1 英寸源（NL-D3）。最后，我们可以将这些源集成到您现有的 PVD 系统中，或将它们集成到我们定制的 真空系统中。
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多高度探针用于测量各种材料和样品尺寸。由25厘米宽、29厘米深、0.8厘米厚的硬质阳极氧化铝底座组成。一根直径为19mm、高度为20cm的不锈钢柱（用螺丝固定在底座上）支撑探头的升降机构，包括垂直滑动、操作杆轴和微型开关。垂直滑动带着探头，由夹紧螺钉固定。探针头的位置应确保在探针接触之前，微动开关不会通过电流。丢失动作确保在探头升起之前切断电流。探针臂可以很容易地定位在垂直轴上的不同高度，以允许对扁平材料或大或厚材料进行探测。
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俄歇电子能谱及低能电子衍射分析系统是一种用于薄膜及合金表面深度分析的设备，结合了俄歇电子能谱（AES）、低能电子衍射（LEED）和氩离子溅射深度分析技术。它能够实现对薄膜和合金的元素组成、原子结构和深度分布的“亚纳米级”精度分析，适用于大范围样品的半自动化操作。系统配备延迟型区域分析器、双静电透镜电子枪、磁场内电子冲击离子源、线型磁动样品传输臂和超高真空腔体等组件，支持样品预抽真空室（load-lock腔室），具备高精度和高真空度的特点，可用于多种材料的表面分析。
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单点开尔文探针是一种高精度、非接触、非破坏性的振动电容装置，专门用于测量导电材料的功函或半导体材料表面的表面电势和表面功函。这种技术对材料表面最顶部的1-3层原子或分子非常敏感，因此是一种极其灵敏的表面分析方法。KP Technology公司提供的单点开尔文探针系统具有业界最高的分辨率，功函分辨率小于3meV，支持手动高度调节。它广泛应用于有机和非有机半导体、金属、薄膜、太阳能电池、有机光伏材料以及腐蚀研究等领域。
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