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超薄瓷质抛光砖及其制作工艺

913   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 14:29:00
本发明特指一种用来生产超薄瓷质抛光砖及其制作工艺,其原料按重量百分比组成为长石类熔剂20～40%,粘土类原料20～30%,钙镁质原料0～8%,抗脆剂10～30%,坯体增强剂0.1～1%。也可外加1～20%能发射阴离子和远红外线的陶瓷粉制成功能性超薄瓷质抛光砖。将以上原料通过配料—球磨—过筛—除铁—喷雾干燥制粉—陈腐—压制成型—干燥—烧成—抛光—分级拣选,制成本发明的800×1800×(3～6)MM瓷质砖。坯体中引入了较多的抗脆剂,以保证超薄砖有足够的烧成强度。采用本发明制备的陶瓷坯体具有质轻,节能,能发射阴离子和远红外线的特点,属于新型环保类建筑装饰材料。
声明：
“超薄瓷质抛光砖及其制作工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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