一种pecvd尾气处理装置
技术领域
1.本实用新型属于尾气处理技术领域，尤其涉及一种pecvd尾气处理装置。
背景技术：
2.半导体行业通常采用等离子体增强化学气相沉积法制造减反射膜(例如氮化硅膜)，等离子体增强化学气相沉积法简称为pecvd，其利用强电场，使所需的气体源分子电离产生等离子体，等离子体中含有很多活性很高的化学基团，这些基团经过经一系列化学反应，在硅片表面形成固态薄膜。
3.目前沉积sin常采用的气体有sih4、nh3和nf3等气体，经过沉积膜后，会产生大量尾气。尾气处理时，先将尾气通入加热腔内进行燃烧，燃烧后产生大量颗粒和hf等，再通过喷淋将粉尘溶解在水里，并通过水泵抽走、而hf等气体则通过管道排入厂务端。
4.但尾气燃烧产生的大量颗粒难以溶解在水里，水泵抽出时，容易堵塞管道，而且管道中的hf和水蒸气吸附在管道上时，会腐蚀管道，影响管道使用寿命。
技术实现要素：
5.有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种pecvd尾气处理装置，解决现有技术尾气燃烧产生的大量颗粒难以溶解在水里，水泵抽出时，容易堵塞管道，而且管道中的hf和水蒸气吸附在管道上时，会腐蚀管道，影响管道使用寿命的问题。
6.本实用新型通过以下技术手段解决上述技术问题：
7.一种pecvd尾气处理装置，包括加热腔、喷淋组件和水泵，所述加热腔内设置有电子加热棒，所述加热腔一端设置有进气管道，另一端设置有出气管道，所述出气管道的末端设置有u型管道，所述出气管道与u型管道之间安装有粉碎机，所述u型管道的一端与粉碎机连通，另一端连接有喷淋管道，所述喷淋管道的末端设置有反应组件，所述反应组件包括反应腔、输入管道和输出管道，所述输入管道和输出管道均与反应腔连通，所述反应腔内装填有一水合氨，所述输入管道的自由端与喷淋管道连通，所述u型管道底部设有连接管，所述水泵的进水口与连接管连通。
8.进一步，所述喷淋组件包括管体、第一喷淋件、第二喷淋件和第三喷淋件，第一喷淋件、第二喷淋件和第三喷淋件三者结构相同，第一喷淋件包括水管和喷头，所述第一喷淋件的喷头位于出气管道内，所述第二喷淋件和第三喷淋件的喷头位于喷淋管道内。
9.进一步，所述反应腔内设置有ph检测仪。
10.进一步，所述输出管道处设置有过滤箱，所述过滤箱上连通有排气管。
11.进一步，所述粉碎机的上下两端均设有水封接头，所述水封
声明：
“PECVD尾气处理装置的制作方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
1307
编辑：中冶有色网
来源：威科赛乐微电子股份有限公司
分享 0
举报 0
收藏 0
反对 0
点赞 0
2025年05月16日 ~ 18日 
