本实用新型公开了一种用于化学机械研磨的固定环,适于固定一晶片,所述固定环包括:一环形本体,其内部开设有一环形通道;至少一个第一孔,分布在环形本体的外壁上,且与环形通道连通;多个第二孔,均匀分布在环形本体的内壁上,且与环形通道连通,当化学机械研磨工艺被中断时,通过由固定环内壁孔中喷射出的保护液清洗金属表面的研磨液,可防止金属被腐蚀,减少在后续工艺中金属表面产生擦痕,并且延长机器检修时间。
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