本发明公开了一种超痕量Hg(Ⅱ)去除方法,其特征在于:将一种羟基修饰的MOF材料浸泡在含有超痕量Hg(Ⅱ)的废水中。本发明中的羟基修饰的MOF材料对汞离子有较高的吸附容量和高选择性,以快速、高效地去除水溶液中的痕量Hg(Ⅱ)离子,吸附效果远高于其他吸附材料,最大吸附容量为278mg/g,对初始浓度为100ppb的汞离子溶液一次处理后去除率高达87.5%,残留汞离子浓度低于12.5μg/L,远低于国家废水排放标准(50μg/L)。
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