本发明涉及一种去除石英砂粉中羟基的方法,先将高纯石英物料送入高温真空炉中,升温至1000~1050℃,通入H
2或H
2与氮气和/或氦气的混合气体作为还原气体,进行高温还原处理,时间不少于2小时,然后开启真空系统,将温度升至1470~1500℃,真空度6.0×10
‑6~7.0×10
‑6pa,进行真空脱气处理,时间3~4小时,即得高纯度低羟基石英砂粉物料。该方法制备出的石英砂粉中羟基含量低于3ppm。
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