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由二氧化硅制备纳米硅的新方法

1064   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 00:30:33
本发明公开了一种由二氧化硅制备纳米硅的新方法，该方法基于镁热还原SiO2是放热的自发反应的原理，通过在室温下低转速球磨引发反应，并利用反应放热，维持反应自发进行，10min即可基本完成。原料简单易得，操作步骤非常简单，具有简单快捷，产率高，成本低、反应产物纯度高、易于放大等优势，制备出的纳米硅颗粒尺寸小，分布均匀，具有多孔结构，可利用在锂离子电池负极材料，传感器，光学器件等各个方面，极具工业化应用前景。
声明：
“由二氧化硅制备纳米硅的新方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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