合肥金星智控科技股份有限公司
宣传

位置:中冶有色 >

有色技术频道 >

> 加工技术

> 二硫化钼薄膜材料的制备方法

二硫化钼薄膜材料的制备方法

690   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 00:29:13
一种二硫化钼薄膜材料的制备方法,以MoS2靶材为原料,在氩气和硫化氢混合气体环境中,通过磁控溅射法在基底上制备MoS2薄膜,二硫化钼薄膜材料的厚度为0.1-10.0μm。本发明的优点是:通过在磁控溅射技术使用Ar气-H2S混合气和基底加热原位退火方式,可以保证MoS2薄膜实现均匀沉积并且S/Mo原子比保持在2∶1,增加溅射时间可以有效增加厚度,提高MoS2纳米薄膜产量;该方法简单快速,制备工艺简单,厚度可控,方法薄膜便于控制,为其在光电池、锂电池、固体润滑剂和其他方面的广泛应用提供了可能。
声明:
“二硫化钼薄膜材料的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
分享 0
         
举报 0
收藏 0
反对 0
点赞 0
标签:
加工技术
全国热门有色金属技术推荐
展开更多 +

 

中冶有色技术平台微信公众号
了解更多信息请您扫码关注官方微信
中冶有色技术平台微信公众号中冶有色技术平台

最新更新技术

报名参会
更多+

报告下载

第二届中国微细粒矿物选矿技术大会
推广

热门技术
更多+

衡水宏运压滤机有限公司
宣传
环磨科技控股(集团)有限公司
宣传

发布

在线客服

公众号

电话

顶部
咨询电话:
010-88793500-807
专利人/作者信息登记