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用于原位法处理地层的硫屏蔽层

738   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-10 00:50:04
本文描述了用于在地下地层中的至少一部分处理区周围形成屏蔽层的方法。可将硫加入一个或多个位于地层中的处理区边界内的井孔中,所述处理区的渗透性至少为0.1达西。允许至少一些硫流向比硫的熔点低的地层部分使得硫在地层中固化以形成屏蔽层。
声明：
“用于原位法处理地层的硫屏蔽层” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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