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Li-F共掺杂生长p型ZnO晶体薄膜的方法

1011   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-18 23:14:34
本发明公开的Li-F共掺杂生长p型ZnO晶体薄膜的方法,采用的是脉冲激光沉积法。靶材是由纯氧化锌、纯氟化锌和纯碳酸锂粉末球磨混合后压制成型,烧结后得到掺ZnF2和Li2O的ZnO陶瓷靶,其中氟化锌的摩尔含量为0.3%,氧化锂的摩尔含量为0.6~0.9%;然后在脉冲激光沉积装置的生长室中,以纯O2为生长气氛,控制O2压强5~20Pa,激光频率为3~5Hz,生长温度为300~500℃,在衬底上生长p型ZnO晶体薄膜。本发明方法可以实现实时掺杂,掺杂浓度通过调节生长温度和靶材中Li和F的摩尔含量来控制。采用本发明方法制备的p型ZnO晶体薄膜具有良好的电学性能,重复性和稳定性。
声明:
“Li-F共掺杂生长p型ZnO晶体薄膜的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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