本发明公开了一种基于铌酸锂薄膜的大模斑水平端面耦合器,属于集成光器件技术领域。本发明所述耦合器包括双层倒锥和包层波导;所述双层倒锥包括上层倒锥和下层倒锥;所述下层倒锥材料为二氧化硅和铌酸锂,所述上层倒锥材料为铌酸锂;所述包层波导覆盖于所述双层倒锥上,所述包层波导的材料为氮氧化硅,包层波导的截面呈现出圆顶凸字形。所述下层倒锥延伸至耦合器
芯片端面;所述上层倒锥截止于所述下层倒锥的铌酸锂层之上。本发明基于铌酸锂薄膜的大模斑水平端面耦合器在不增加额外光刻步骤的情况下,增大耦合器模斑尺寸,提升耦合器耦合效率。
声明:
“基于铌酸锂薄膜的大模斑水平端面耦合器” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)