本发明公开了一种光束成像装置,包括:衬底层、图形层、钝化层和电极层,所述衬底层包括底层和表层,所述图形层位于所述衬底层的所述表层的上方,所述图形层包括底层和表层,所述底层为禁带宽度不小于2.3eV,所述表层为禁带宽度不小于2.3eV且折射率不高于所述底层;所述电极层位于所述图形层的所述表层的上方,所述电极层包括正电极和负电极,所述正电极和所述负电极分别与所述图形层的所述表层相接触;所述电极层为电阻率不大于5×10
‑7Ω·m且与所述图形层的接触势垒不大于1.5eV的具有低电阻率和低接触势垒的金属、合金或金属/氧化物
复合材料。本发明具有如下优点:可以实现低成本、低传输损耗、高稳定性和高均匀性的成像过程。
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