本发明涉及
复合材料的微纳加工技术领域,公开了一种表面粗糙的纳米阵列结构的制备方法,包括以下步骤:通过自组装的方法制备有序的单层聚苯乙烯微球阵列;利用等离子体刻蚀技术对聚苯乙烯微球阵列进行刻蚀,使聚苯乙烯微球直径缩小;利用离子束轰击技术对刻蚀完成的聚苯乙烯微球阵列进行轰击,使聚苯乙烯微球表面变得粗糙;利用磁控溅射技术在轰击完成的聚苯乙烯微球阵列表面溅射纳米阵列结构材料,即获得表面粗糙的纳米阵列结构。通过本发明的制备方法获得的纳米阵列结构中,各纳米粒子表面粗糙,因而具有比表面积大、活性大、光散射增加的优点,且各纳米粒子体积小,整个纳米阵列结构周期性好,在应用上更具优势。
声明:
“表面粗糙的纳米阵列结构的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)