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使用溅射和蒸发功能形成硫族化合物半导体材料的方法和系统

926   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:30:14
本发明公开了一种使用溅射和蒸发功能形成硫族化合物半导体材料的方法和系统，所述方法和系统实现了来自靶的金属前体材料和来自Se基生成系统的Se基的同时沉积。Se基生成系统包括产生Se蒸汽的蒸发器和使用等离子体生成Se基通量的等离子腔室。可以依次进行多个这种沉积操作，每一个操作具有准确控制的沉积温度。沉积材料可以包括组分浓度梯度或者可以是复合材料，并可以用作太阳能电池中的吸收层。
声明：
“使用溅射和蒸发功能形成硫族化合物半导体材料的方法和系统” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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