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进阶反转电解铜箔及其铜箔基板

573   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:30:13
本发明公开一种进阶反转电解铜箔及其铜箔基板，其中进阶反转电解铜箔具有一不平整的微粗糙化处理面。微粗糙化处理面具有呈非均匀性分布的多个铜结晶、多个铜晶须以及多个铜结晶团，它们构成了一非均匀分布的垂流状条纹图案。因此，本发明的进阶反转电解铜箔与树脂基复合材料之间具有良好的结合力，且能够提高信号完整性以及减少信号的传输损耗，满足5G应用的需求。
声明：
“进阶反转电解铜箔及其铜箔基板” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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