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低逾渗石墨烯/高分子电磁屏蔽材料的制备方法

954   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 17:04:16
本发明涉及一种低逾渗石墨烯/高分子电磁屏蔽材料的制备方法，复合材料主要原料按以下重量百分比构成：超高分子量聚乙烯UHMWPE94～99.7％，氧化石墨烯GONS0.3～6％。其制备工艺如下：(1)原料干燥；(2)GONS/UHMWPE导电粒子制备；(3)高温压制成型。本发明利用材料热压制备过程中的高温原位还原氧化石墨烯，避免了氧化石墨烯在化学还原过程中的团聚。使复合材料拥有更低的导电逾渗值，更高的电导率和电磁屏蔽性能，且制备过程简单，工艺易于掌握，生产成本低，容易实现大批量生产。
声明：
“低逾渗石墨烯/高分子电磁屏蔽材料的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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复合材料
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