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半导体基材构造及其加工方法

1023   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 16:53:49
本发明公开了一种半导体基材构造及其加工方法,方法包括:在基材上加工一穿透孔沟槽;在该孔沟槽添加高分子复合材料;对该基材表面进行研磨或喷沙;对该基材表面进行表面被覆材料的处理。该半导体基材构造包含有基材,具有穿透孔及沟槽;其中该穿透孔及沟槽内填充有高分子材料及复合材料。本发明具有高平整度及切割不易生毛边的优点,且不易变形,增加了产品封装的良率及品质,而使用发光二极管的芯片或一般IC集成电路芯片封装时,会易于达成电子芯片所需的封装需求,而且比公知的基材构造成本低。
声明：
“半导体基材构造及其加工方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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