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半导体器件及其制造方法

785   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 16:53:47
本发明提供一种半导体器件及其制造方法，所述方法包括：提供具有NMOS区和PMOS区的半导体衬底，在其上形成有栅极结构，且在栅极结构的顶部和侧壁形成有栅极硬掩蔽层；在半导体衬底上形成完全覆盖栅极结构的硬掩膜层；在PMOS区形成嵌入式锗硅层，在栅极结构的侧壁和/或顶部形成由栅极硬掩蔽层、硬掩膜层和新生材料层构成的复合材料层叠结构；去除位于NMOS区的部分复合材料层叠结构，直至露出半导体衬底；去除所述复合材料层叠结构的剩余部分，仅在栅极结构的两侧留有部分栅极硬掩蔽层。根据本发明，在PMOS区形成嵌入式锗硅层后，可以有效去除NMOS区的复合材料层叠结构，扩大了后续硅化工艺和接触孔工艺窗口，提高了产品良率。
声明：
“半导体器件及其制造方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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