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弥散铜基真空开关触头复合材料的制备工艺方法

739   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-18 16:15:03
本发明属于合金材料技术领域。提出的一种弥散铜基真空开关触头复合材料的制备工艺方法，采用低固溶度Cu－Al合金粉末，其铝含量不大于1.00wt％，余量为Cu，纯铬金属粉末、工业级Cu2O作为原材料，其中，Cu－Al合金粉与氧化剂Cu2O的混合比例为(94～96)wt％∶(6～4)wt％，Cu－Al合金粉和氧化剂Cu2O的总量与Cr粉的混合比例为(75～50)wt％∶(25～50)wt％；制备工艺包括：合金熔炼，制粉，混粉，压制，内氧化和热挤压，冷拉拔成型；其中内氧化与烧结同时进行，烧结的温度为900－1050℃，烧结时间4～10小时；获得的弥散铜基真空开关触头复合材料主要包含有弥散铜基体Cu－Al2O3和Cr质点，其Al2O3含量≤1.50wt％，颗粒直径不大于100nm，Cr含量25wt％～50wt％。
声明：
“弥散铜基真空开关触头复合材料的制备工艺方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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