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适合于X荧光多元素分析仪的密封膜片渗漏测量装置及方法

639   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-02 00:40:05
本发明涉及一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置及方法。该装置采用双层膜片对探测腔体内部空间进行密封保护，并在内膜片与外膜片之间用安装有用绝缘圈间隔开的二块铜板，利用二极管的反向截止和水的导电性，来判断外铜板与内铜板之间是否因接触到矿浆而形成导通，进而判断外膜片4的密封是否发生渗漏。一旦检测到外膜片渗漏或线路连接故障，可通过继电器发出报警信号，使仪器启动保护措施。
声明：
“适合于X荧光多元素分析仪的密封膜片渗漏测量装置及方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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