本发明涉及一种适合于X荧光多元素分析仪测量的密封膜片渗漏测量装置及方法。该装置采用双层膜片对探测腔体内部空间进行密封保护,并在内膜片与外膜片之间用安装有用绝缘圈间隔开的二块铜板,利用二极管的反向截止和水的导电性,来判断外铜板与内铜板之间是否因接触到矿浆而形成导通,进而判断外膜片4的密封是否发生渗漏。一旦检测到外膜片渗漏或线路连接故障,可通过继电器发出报警信号,使仪器启动保护措施。
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