本发明公开了一种选择性近红外光响应形状记忆聚合物
复合材料,采用
稀土有机配合物作为选择性光热填料,采用热致形状记忆聚合物作为聚合物基体材料;所述稀土有机配合物的通式为RMmNn,其中:R表示镱或钕;M表示羧酸类有机配体,m=0‑4;N表示共轭类有机配体,n=0‑4。本发明还公开了选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料的制备方法,也即通过物理方法和/或化学方法将选择性光热填料和聚合物基体材料混合制备得到。其中,聚合物基体材料为100份,物理方法混合时光热填料为0.1‑50份,化学方法混合时光热填料为0.1‑20份。本发明有效降低了选择性光热填料的成本,有利于选择性光响应形状记忆聚合物的推广应用。
声明:
“选择性近红外光响应形状记忆聚合物复合材料及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)