本实用新型公开了一种用于地质薄片磨抛的装置,包括磨抛装置主体,所述磨抛装置主体的顶部固定连接有水平约束力着力点,且所述磨抛装置主体的底部开设有若干个载玻片限位槽。本实用新型所述的用于地质薄片磨抛的装置操作简单,安全性高,控制精确,受力均匀,样品厚度均匀,成品率高,通过该装置的研制,可以在不改变原有磨片及抛光设备的基础上,实现自动磨抛,且保证了压力及参数的统一,避免了人为因素的干扰,更有利于磨抛工艺的统一及标准化管理工作。
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