本发明公开了一种青瓷的制备方法,所述青瓷采用矿物质原料和高分子材料制备胚料和釉料,所述胚料包括组分A、组分B及组分C,所述制备方法包括以下步骤:S1:组分A、组分B及组分C的制备;S2:胚料的浆料制备;S3:胚体成型;S4:胚体素烧:所述素烧包括第一阶段、第二阶段及第三阶段;所述第二阶段温度区间为200°‑600°,期间升温速度为1‑2°/min,窑内气压保持在0.2‑0.3MPa,升至600°时保温20‑30分钟;S5:釉料的釉浆制备;S6:上釉;S7:釉烧。本发明的制备方法不仅生产成本低、适合批量生产,并且通过合理控制素烧、釉烧不同阶段的升温速度、窑内气压及处理时间,提高了成品率,使得生产出来的青瓷强度高、不易破碎、瓷质细腻、光泽高。
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