本发明公开了一种控制氰根离子浓度减弱浸金过程中铜溶解的方法。本发明科学设计分批分点加药氰化浸出,成功保证整个氰化浸出过程游离氰根浓度稳定在0.05~0.08%,在抑制铜溶解的同时实现金选择性浸出,并进一步在破碎和磨矿体系中科学加入氰化钠合理控制游离CN?浓度为0.02~0.03%,使氰化钠与磨矿过程中不断暴露出的新鲜金微粒表面作用,在较低的氰根离子浓度下实现边磨边浸,获得更佳的技术效果,采用本发明方法,金的浸出率显著提高,铜的浸出率进一步降低,更加有益于工程化实施,具有重要的工业推广应用价值。
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