权利要求书： 1.一种无测量装置可连续控制电解液深度的电解池，包括电解池本体(1)，其特征在于：所述电解池本体(1)的侧壁开设有电解液调节观察室(4)，所述电解液调节观察室(4)中安装有电解液调节装置和电解液控制装置；所述电解液调节装置包括与电解池本体(1)连通的储液筒(5)，所述储液筒(5)中设置有与储液筒(5)滑动连接的活塞(6)，所述活塞(6)远离电解池本体(1)的一端固定连接有穿过储液筒(5)和电解液调节观察室(4)沿伸至电解液调节观察室(4)外的活塞轴(8)。2.根据权利要求1所述的无测量装置可连续控制电解液深度的电解池，其特征在于：所述电解池本体(1)的内底面积是储液筒(5)活塞(6)前端面积的整数倍。3.根据权利要求2所述的无测量装置可连续控制电解液深度的电解池，其特征在于：所述电解池本体(1)的内底面积是储液筒(5)活塞(6)前端面积为的10倍。4.根据权利要求1所述的无测量装置可连续控制电解液深度的电解池，其特征在于：所述电解液控制装置包括与活塞轴(8)固定连接的千分尺(9)。5.根据权利要求4所述的无测量装直可连续控制电解液深度的电解池，其特征在于：所述电解液调节观察室(4)的侧壁上设置有用于固定千分尺(9)的定位支架。6.根据权利要求1所述的无测量装置可连续控制电解液深度的电解池，其特征在于：所述储液筒(5)采用PFA塑料制成。7.根据权利要求6所述的无测量装置可连续控制电解液深度的电解池，其特征在于：所述储液筒(5)的筒身设置有刻度线，所述刻度线的分度值为10μm。8.根据权利要求1所述的无测量装置可连续控制电解液深度的电解池，其特征在于：所述电解液调节观察室(4)侧壁上开设用于观察电解液调节装置的工作状态的观察窗(10)。9.一种无测量装置可连续控制电解液深度的电解池的电解液深度调节方法，应用权利要求1所述的一种无测量装置可连续控制电解液深度的电解池，其特征在于，包括：S1、在电解池本体(1)的载物台中放置待加工件，向电解池本体(1)中加入电解液(2)至代加工件表面；S2、转动千分尺(9)，调节电解池中电解液(2)的高度。10.根据权利要求9所述的一种无测量装置可连续控制电解液深度的电解池的电解液深度调节方法，其特征在于：所述S2中千分尺(9)转动一圈，电解池本体(1)中的电解液(2)下
声明：
“无测量装置可连续控制电解液深度的电解池及其调节方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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编辑：管理员
来源：常熟市新达模塑成型有限公司
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2025年05月16日 ~ 18日 
