本发明属于材料制备技术领域,公开了一种高浓度钼掺杂三氧化钨光催化
纳米材料及其制备方法,所述高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料按照质量份数计,由三氧化钨8~12份、钼酸钠6~7份、石墨2~4份、去离子水23~30份、盐酸8~11份、硝酸4~5份、乙二醇5~8份组成。本发明制备的高浓度钼掺杂三氧化钨为光催化纳米材料,可降低原三氧化钨材料中的电子空穴复合率,能增强其在光催化反应中对太阳光谱的吸收宽度,提高光催化反应对太阳光的利用率,并提高光催化降解有机物的效率。同时,本发明通过改变催化剂的结构提高其光催化性能,钼负载中孔三氧化钨能够用有效的利用可见光,拓展了三氧化钨的光响应范围。
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