本发明属于陶瓷砖制备技术领域,具体的涉及一种自清洁陶瓷砖及其制备方法。所述的自清洁陶瓷砖,包括陶瓷砖基体以及涂覆于陶瓷砖基体表面的自清洁涂层;所述的陶瓷砖基体由以下原料组成:高岭土、煅烧铝矾土、硅藻土、焦宝石、莫来石、
菱镁矿、锂基蒙脱土、偏硅酸钙、硅酸锆、碳化硅;所述的自清洁涂层,包括以下原料:纳米氧化锌、纳米氧化铈、1H,1H,2H,2H‑十三氟辛基三甲基
硅烷、二甲基硅油、十七氟癸基三乙氧基硅烷。本发明所述的自清洁陶瓷砖,陶瓷砖基体与自清洁涂层的结合力强,具有很好的耐高温性能和机械性能;自清洁涂层满足结构致密的同时,还具有优异的憎水性、憎油性、机械性能和耐腐蚀性。
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