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工艺研究用大尺寸钴靶 已认证

工艺研究用大尺寸钴靶

浏览量 926
规格/型号:Ф101.6*4mm
品牌:暂无
应用领域:钴靶材具有优良的硬度、热稳定性、耐腐蚀性等性能,可以应用在半导体器件、光电器件、磁性存储材料、电子元件、传感器、光伏电池等制造领域,使用时利用高能粒子轰击靶材在基材表面沉积形成薄膜。 在集成电路领域,
产地:北京 - 北京
咨询电话::18612792728(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2026-07-10
级别:已认证

工艺研究用大尺寸钴靶说明介绍

简介 钴靶材具有优良的硬度、热稳定性、耐腐蚀性等性能,可以应用在半导体器件、光电器件、磁性存储材料、电子元件、传感器、光伏电池等制造领域,使用时利用高能粒子轰击靶材在基材表面沉积形成薄膜。 在集成电路领域,高纯钴靶材发挥着重要作用,在先进工艺制程下可以提高芯片导电性能,降低芯片功耗,提升芯片频率响应速度。 技术参数
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企业认证:
营业执照已认证    手机号已认证
所属领域:
冶金,材料,钽铌
企业性质:
生产型
经营范围:
高纯化合物材料、高纯金属材料、高熵合金、溅射靶材、纳米粉末、镀膜材料、3D打印粉末、增材制造材料
联系电话:
18612792728
详细地址:
回龙观镇建材城西路87号院8号楼8层2-918-1
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