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半导体与微电子用铬靶 已认证

半导体与微电子用铬靶

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规格/型号:Ф25.4*5mm
品牌:暂无
应用领域:铬(Chromium, Cr)是一种高硬度、耐腐蚀、耐高温的金属材料,在薄膜沉积领域中具有重要地位。铬靶材常用于电极层、阻挡层、粘附层及光学薄膜的制备,具有良好的附着性和膜层稳定性,是半导体工艺、光学
产地:北京 - 北京
咨询电话::18612792728(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2026-07-10
级别:已认证

半导体与微电子用铬靶说明介绍

简介 铬(Chromium, Cr)是一种高硬度、耐腐蚀、耐高温的金属材料,在薄膜沉积领域中具有重要地位。铬靶材常用于电极层、阻挡层、粘附层及光学薄膜的制备,具有良好的附着性和膜层稳定性,是半导体工艺、光学镀膜与功能涂层中的关键基础材料。 技术特点 高纯度(3N5–4N),薄膜电学、附着性与耐腐蚀性更稳定; 硬度高、抗脆裂性能好; 膜层附着力强,是常用的粘附层材料; 工艺稳定、颗粒脱落率低、膜层均匀致密; 支持多种尺寸、厚度与背板结构定制。 铬靶材广泛用于: 1. 半导体与微电子 金属粘附层(如Cr/Au体系) 扩散阻挡层 电极层及互连结构 2. 光学镀膜 反射膜(Cr反射率稳定,常用于金属光学镀膜) 吸收膜、滤光膜 防护膜与结构增强膜 3. 机械与表面防护涂层 耐磨膜 防腐保护层 装饰镀膜(如黑铬膜) 4. 科研领域 Co-Cr、Ni-Cr 合金薄膜研究 功能性复合膜结构设计 电子束镀膜与PVD涂层系统 技术参数
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企业认证:
营业执照已认证    手机号已认证
所属领域:
冶金,材料,钽铌
企业性质:
生产型
经营范围:
高纯化合物材料、高纯金属材料、高熵合金、溅射靶材、纳米粉末、镀膜材料、3D打印粉末、增材制造材料
联系电话:
18612792728
详细地址:
回龙观镇建材城西路87号院8号楼8层2-918-1
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